Títanplötumarkmið

Titanium Plate Target er flatt, solid stykki af títanmálmi, oft notað í ýmsum iðnaðar- og vísindalegum tilgangi, sérstaklega í sputterferlum. Það þjónar sem markefnið sem títan frumeindir eru settar út á undirlag í ferlum eins og þunnfilmuútfellingu eða húðun.

Titanium Plate Target er fast,-hreint stykki af títan (eða títanblendi) sem er unnið í flata, plötu-líka lögun, sem er notað sem upprunaefni í líkamlegu gufuútfellingu (PVD) ferli. Aðalhlutverk þess er að vera líkamlega veðrað eða „sputtered“ þannig að hægt sé að flytja frumeindir þess og setja sem þunn filmu eða húð á undirlag (hluturinn sem verið er að húða).

Það er neysluhlutur í iðnaðar- og rannsóknarhúðunarkerfum.

1.Efni: Hár-títan (oft Ti-6Al-4V eða verslunarhreint títan, Ti-CP), sem býður upp á framúrskarandi tæringarþol, hátt hlutfall styrks og þyngdar og lífsamrýmanleika, sem gerir það hentugt fyrir margs konar notkun, þar á meðal loftrými, læknisfræði og iðnaðarnotkun.

2.Þykkt: Þykkt títanplötumarkmiðsins getur verið mjög mismunandi eftir notkun, venjulega á bilinu 0,5 mm til 10 mm eða meira. Í sérstökum forritum, eins og sputtering skotmörk fyrir útfellingarferli, gæti þykktin verið frá nokkrum millimetrum til nokkurra sentímetra.

3.Mál (breidd x lengd): Títanplötumiðar geta komið í ýmsum stærðum, allt eftir framleiðsluferli og notkun. Algengar stærðir eru allt frá litlum (td 50 mm x 50 mm) til stærri plötum (td 1000 mm x 500 mm eða meira). Nákvæmar stærðir verða sniðnar að tilteknu forriti, hvort sem er fyrir sputtering, suðu eða önnur ferli.

4.Hreinleiki: Títan skotmörk koma oft í ýmsum hreinleikastigum. Hreint títan (gráða 1, 2, 3 eða 4) er algengt, þó að hægt sé að nota hærri hreinleika (eins og Ti-6Al-4V álfelgur eða jafnvel hærra hreinleikaform) eftir sérstökum kröfum. Mikill hreinleiki tryggir lágmarks mengun í ferlum eins og sputtering.

5.Þéttleiki: Þéttleiki títanplötumarka er venjulega um 4,43 g/cm³ (fyrir hreint títan). Þéttleikinn getur verið örlítið breytilegur eftir tilteknu málmblöndunni.

6.Yfirborðsfrágangur: Hægt er að framleiða títanplötur með ýmsum yfirborðsáferð byggt á fyrirhugaðri notkun:

7.Gróft eða fágað yfirborð: Sputtering skotmörk eru oft með fínpússað eða létt áferð yfirborð til að gera ráð fyrir hámarks sputteringsframmistöðu.

8.Hreinsuð eða köld-valsuð áferð: Það fer eftir notkun, títanplötur geta gengist undir glæðingu eða köldu-valsingu til að ná tilætluðum vélrænni eiginleikum og yfirborðsáferð.

9.Lögun: Þó að algengasta formið sé rétthyrnd eða ferhyrnd plata, er einnig hægt að aðlaga títanmarkmið í hringlaga eða önnur lögun, allt eftir útfellingarbúnaði eða notkun (td fyrir sputtering í lofttæmishúðunarkerfum).

10.Vélrænir eiginleikar:

11.Hreinleiki í sputtering forritum: Fyrir sputtering skotmörk sem notuð eru í þunnri-filmuútfellingu er títanmarkmiðið oft tilgreint með hreinleika 99,5% til 99,99% til að forðast mengun meðan á filmuútfellingu stendur.

12.Hitaþol: Títan hefur framúrskarandi-hitaafköst, með getu til að viðhalda styrkleika sínum við hærra hitastig, sem gerir það hentugt til notkunar í háum-hitaumhverfi eins og geim- og rafeindaframleiðslu.

maq per Qat: títanplötumarkmið, Kína títanplötumiðaframleiðendur, birgjar, verksmiðja